Lift-out Shuttle（LOS）　[Shuttleシステム]

　「Lift-out Shuttle」(LOS)は、FIBでのTEM試料のリフトアウトに特化され、XYZ(またはXYZR)ステージとマクログリッパーから構成されます。グリッパーはShuttleプラットホームに固定されており、プラットホーム中心に配置されたステージを動かすことで、試料薄片のリフトアウトおよびTEMグリッドへの移動を行います。
　LOSを用いることで、従来のFIB法TEM試料作製の工程を短縮することが可能です。真空対応の電子線硬化接着剤「SEMGLU」を併用することで、IBID(Ion Beam Induced Deposition)を必要とせず、試料汚染を減らし、ランニングコストも低減できます。
　リフトアウトから固定までの工程をFIBでなく、SEMで行うことも可能です。


*1　：　試料のリフトアウト　（マイクログリッパー　MGS2-EM）
		LOSでは試料のリフトアウトにグリッパーを用います。従来のプローブ針を使った手法と比較すると、リフトアウト時のプローブ-試料のデポジッション(IBID、および試料をグリッドに移し替えた後に行うプローブの切り離し工程を省くことができます。もちろんプローブの交換も不要であり、グリッパーは繰返し使用することができます。

*2　：　試料の固定　（電子線硬化接着剤　SEMGLU）
		リフトアウトした試料とグリッドの固定には、従来通りIBIDを利用することも可能ですが、真空対応の電子線硬化接着剤「SEMGLU」を用いることができます。　予めグリッドに少量の接着剤を付着させておき、試料を接着剤の付いた部分に移動します。接着剤は電子線を局所的に絞って照射することでのみ硬化します。(ex.ビーム電流1nA@Magx50000で約1分)。

*3　：　アプローチ / コンタクト　（XYZピエゾステージ）
		試料の位置決め　（マニピュレーション）に用います。ステージはグリッパーと独立し、ステージ制御で試料をグリッパーtipおよび、グリッドピンへアプローチします。ピエゾ駆動による精密な動作は、試料のアプローチを確実かつ容易にします。

SEM
	⇒　　　　　　　　　⇒		⇒
FIB
	リフトアウト　　　　アプローチ	固定	リリース

　― 仕様 ―

■　Lift-out SHUTTLE 本体

・　制御：コントローラ　（フロントノブ）または、ジョイパッド

・　取付け：SHUTTLE マウント　（ロードロック経由）

・　サイズ：W72 x D48 x H26 mm

■　ピエゾステージ

・　動作モード：Fine　（微動） / Coase　（粗動）

・　動作軸：XYZ （オプション：R）

・　分解能　（Fine）：＜0.5 nm

・　レンジ（Coase）：XY=10mm / Z=3mm

■　マイクログリッパー

・　グリップ面積：（5～10μm）²

・　分解能：20 nm

・　開閉レンジ：0～20-40μm

・　グリップ力：可変　（μN～mN）

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→英文）Lift-out Shuttle(LOS)　[Shuttleシステム]

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