リモートプラズマクリーナー

ターボ分子ポンプ領域で運転可

プラズマソースを設置した試料室の真空度が、0.1mTorr～2Torrレンジでプラズマ点火が可能です。
試料室を大気開放する必要が無く、高真空状態から即プラズマクリーニングが可能で、ターボポンプの回転数を下げることなくプロセスを実行します。
ターボポンプを止めないため、クリーニング後わずか数分で既定の真空度に回復します。

※設置する装置や設置箇所（試料室/交換室）, 使用目的によって条件は大きく異なります。詳細は別途お問合わせ下さい

秀逸なユーザーI/Fデザイン

超Highスピードクリーニング

使用済みのアパーチャープレートのように、クリーニング対処物がひどく汚染されている場合、プラズマソースとアダプタの間の「ブースターチューブ」内でクリーニングすることで、超高速クリーニングが可能です。

SafeモードとExpertモード

高電圧がかかる検出器を備えたFE-SEMのような分析装置で、ユーザーが装置自体に不慣れな場合、より安全にクリーニングを実施するためのモードが「Safeモード」です。

安全に高電圧をoffする手順を知っているユーザーは、融通性のある「Expertモード」がお勧めです。

選べるコントローラ

マスフロー制御ガス混合器(オプション)

Airを導入して行うプラズマクリーニングは、活性酸素による酸化反応によります。
酸化が許容できない場合は、水素プラズマ（原子状水素）による還元反応によりメタン系炭化水素（CHx）に反応させてクリーニングする方法があります。

複数のプロセスガスを混合して実験する場合には、最大3系統のマスフローガス入力ポートと、1系統のVent/Bypassポート、1口の出力ポートを備えたガス混合器が便利です

　■タッチスクリーンI/F
　■3系統のマスフローコントローラ
　■タイマー機能

※酸素ガス、水素ガスを使用する場合は、プラズマ耐性の真空ポンプを使用して下さい。
※酸素ガス, 水素ガス等の使用は、ガスの安全マニュアルに沿ってご使用下さい。

製品ラインナップ

　リモートタイプのベーシックモデル。一般的な高真空チャンバー向け。

　半導体インライン装置向け。ガス導入ラインにnmサイズのパーティクルを除去する超微細フィルターを搭載。

　また、自動インピーダンスマッチング機能も有り。SEMI-KLEEN Sapphireのように、特定用途向けにカスタマイズも可能です。例えば、SEMI-KLEENプラズマクリーナーは、ALDシステムでエッチング/デポジション用途として使用されています。

　反応性ガス・腐食性ガスに適応するため、プラズマチューブにサファイアを使用。 （H2, NH3, NF3, CF4 etc）

製品仕様

※真空装置の仕様（特にチャンバーサイズやポンプスピード）やソースの設置個所、使用目的や使用方法により大きく異なります。