
ターボ分子ポンプ領域で運転可
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腐食性ガス使用可
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低粒子汚染(低PWP)
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分離されたプラズマソースとコントローラで構成され、ソースはFE-SEMやXPS, EPMAなどの試料チャンバーもしくは試料交換室などに接続されます。接続された試料チャンバーやチャンバー内の試料をプラズマクリーニングすることで、高真空装置におけるカーボン系コンタミネーションを予防・除去します。 プラズマソース内で生成された活性酸素ラジカルが、真空装置付随のターボ分子ポンプで試料室内に引かれて拡散します(ダウンストリーム)。残留したハイドロカーボンガス分子とラジカルが化学的に反応(低温灰化=アッシング)し、反応による副生成物は真空ポンプで試料室外に排出されることで、試料室内をクリーニングします。 |
ターボ分子ポンプ領域で運転可 |
プラズマソースを設置した試料室の真空度が、0.1mTorr~2Torrレンジでプラズマ点火が可能です。 ※設置する装置や設置箇所(試料室/交換室), 使用目的によって条件は大きく異なります。詳細は別途お問合わせ下さい |
秀逸なユーザーI/Fデザイン |
超Highスピードクリーニング |
使用済みのアパーチャープレートのように、クリーニング対処物がひどく汚染されている場合、プラズマソースとアダプタの間の「ブースターチューブ」内でクリーニングすることで、超高速クリーニングが可能です。 |
SafeモードとExpertモード |
高電圧がかかる検出器を備えたFE-SEMのような分析装置で、ユーザーが装置自体に不慣れな場合、より安全にクリーニングを実施するためのモードが「Safeモード」です。 安全に高電圧をoffする手順を知っているユーザーは、融通性のある「Expertモード」がお勧めです。 |
選べるコントローラ |
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19"ラックモデル(オプション) | ポータブル卓上モデル |
マスフロー制御ガス混合器(オプション) |
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製品ラインナップ |
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EM-KLEEN |
リモートタイプのベーシックモデル。一般的な高真空チャンバー向け。 |
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SEMI-KLEEN quartz |
半導体インライン装置向け。ガス導入ラインにnmサイズのパーティクルを除去する超微細フィルターを搭載。
また、自動インピーダンスマッチング機能も有り。SEMI-KLEEN Sapphireのように、特定用途向けにカスタマイズも可能です。例えば、SEMI-KLEENプラズマクリーナーは、ALDシステムでエッチング/デポジション用途として使用されています。
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SEMI-KLEEN sapphire |
反応性ガス・腐食性ガスに適応するため、プラズマチューブにサファイアを使用。 (H2, NH3, NF3, CF4 etc) |
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製品仕様 |
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EM-KLEEN | SEMI-KLEEN quartz | SEMI-KLEEN sapphire | |
用途 | SEM, TEM, XPS, SIMS, AES | SEM, TEM, XPS, SIMS, AES, CD-SEM, EB-Litho | ALD, EUV-Litho for NF3, CF4, NH3, H2, HF, H2S プラズマ |
チャンバー | 石英ガラスチューブ | サファイアチューブ | |
プラズマ方式 | ICP(Inductively Coupled Plasma)[誘導結合型] | ||
RF出力※ | 0~75W at 13.56MHz | 0~75W at 13.56MHz (オプション: 0~150W) | |
動作真空度(ソース内) | 7mTorr ~ 1 Torr | ||
真空チャンバー真空度 (ダウンストリーム側)※ |
0.1mTorr ~ 1Torr | ||
真空計 | マイクロピラニゲージ内蔵、大気~1e-4Torr | ||
インピーダンス整合 | 固定 | 固定 or オート | |
腐食性ガス | 不可 | 可 | |
ソースマウント形状 | NW/KF40 (オプション CF2.75” [CF70]) | ||
PC制御 | RS232/RS485, Windows.Net Framework 4.0以上 | ||
コントローラ |
可搬型、4inchタッチパネル、シリアル通信ポート(D-sub9) ソース~コントローラ間ケーブル 4.5m |
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プラズマソースサイズ | φ86×168 (mm), 1kg | 140×105×190 (mm), 2.2kg | 250×380×130 (mm), 2kg |
標準コントローラサイズ | W305×D340×H200 (mm),7kg | ||
150Wコントローラサイズ | - | W220×D380×130 (mm), 8kg | |
電源 | 110~230VAC, 50/60Hz, 100W以下 |
※真空装置の仕様(特にチャンバーサイズやポンプスピード)やソースの設置個所、使用目的や使用方法により大きく異なります。 |
※RF出力:日本国内では、初期設定でRF出力を49Wまでに制限しています。 |